三轮冲刺----碳、硅及其化合物仿真模拟训练 <br />一、选择题 <br />‎1．开发新材料是现代科技发展的方向之一。下列有关材料的说法正确的是（ ）‎ <br />A．氮化硅陶瓷是新型无机非金属材料 <br />B．普通玻璃、有机玻璃都属于硅酸盐 <br />C．纤维素乙酸酯属于天然高分子材料 <br />D．单晶硅常用于制造光导纤维 <br />‎2．在一定条件下，下列各组物质不能反应的是（ ）‎ <br />‎①CO2+H2O ②H2O+CO ③CO+CO2 ④CO2+C ‎ <br />‎⑤CaCO3+H2CO3 ⑥CO+Fe2O3 ⑦Mg+CO2‎ <br />‎⑧CO+Ca(OH)2 ⑨CO2+Na2O2‎ <br />A．②③⑤⑥⑨ B．①④⑤⑥⑦ C．①②③⑧⑨ D．仅③⑧‎ <br />‎3．石棉属于硅酸盐矿物，某种石棉的化学式可表示为Ca2MgxSiyO22(OH)2，该化学式中x、y的值分别是（ ）‎ <br />A．5、8 B．8、3 C．3、8 D．8、5‎ <br />‎4．工业上通过反应&ldquo;SiO2＋2CSi＋2CO↑&rdquo;制取单质硅，下列说法正确的是（ ）‎ <br />A．自然界中硅元素均以SiO2形式存在 <br />B．硅的化学性质不活泼，常温下不与任何物质反应 <br />C．该反应条件下C的还原性比Si强 ‎ <br />D．生成4.48 L CO时转移电子数为0.4×6.03×1023‎ <br /> <br />‎5．氯气用途十分广泛，可用于生产半导体材料硅，其生产的流程如下，下列说法正确的是（ ）‎ <br /> <br />A．①③是置换反应，②是化合反应 <br />B．高温下，焦炭与氢气的还原性均弱于硅的 <br />C．任一反应中，每消耗或生成28 g硅，均转移2 mol电子 <br />D．高温下将石英砂、焦炭、氯气、氢气按一定比例混合可得高纯硅 <br />‎6．SiO2是一种化工原料，可以制备一系列物质(如图所示)。下列说法错误的是（ ）‎ <br />A．高炉炼铁时，加入石灰石将铁矿石中的脉石(主要成分为SiO2)转化为易熔的炉渣 <br />B．纯净的二氧化硅和单晶硅都是信息产业的重要基础材料 <br />C．用盐酸可除去石英砂(主要成分为SiO2)中少量的碳酸钙 <br />D．图中所含反应都不属于氧化还原反应 <br />‎7．将足量的CO2不断通入KOH、Ba(OH)2、KAlO2的混合溶液中，生成沉淀的物质的量与所通入CO2的体积关系如图所示。下列关于整个反应过程中的叙述不正确的是（ ）‎ <br />A．Oa段反应的化学方程式是Ba(OH)2+CO2BaCO3↓+H2O <br />B．ab段与cd段所发生的反应相同 <br />C．de段沉淀减少是由于BaCO3固体溶解 <br />D．bc段反应的离子方程式是2+3H2O+CO22Al(OH)3↓+‎ <br /> <br />二、非选择题 <br />‎8、M元素的一种单质是一种重要的半导体材料，含M元素的一种化合物W可用于制造高性能的现代通讯材料&mdash;&mdash;光导纤维，W与烧碱反应生成含M元素的化合物X。‎ <br />‎(1)在元素周期表中，M位于第________族，与M同族但相对原子质量比M小的N元素的原子结构示意图为________，M与N核外电子层结构上的相同点是____________________________________________________。‎ <br />‎ (2)易与W发生化学反应的酸是________，反应的化学方程式是____________________。‎ <br />‎(3)将W与纯碱混合高温熔融时发生反应生成X，同时还生成N的最高价氧化物Y；将全部的Y与全部的X在足量的水中混合后，又发生反应生成含M的化合物Z。‎ <br />‎①分别写出生成X和Z的化学方程式： _______________________________________。‎ <br />‎②要将纯碱高温熔化，下列坩埚中不可选用的是________。‎ <br />A．普通玻璃坩埚　B．石英玻璃坩埚　C．铁坩埚 <br />‎(4)‎100 g W与石灰石的混合物充分反应后，生成的气体在标准状况下的体积为11.2 L,‎100 g该混合物中石灰石的质量分数是________。‎ <br />‎9、硅是重要的化学元素之一，在从传统材料到信息材料的发展过程中，其创造了一个又一个奇迹。‎ <br />请回答下列问题：‎ <br />‎（1）硅在元素周期表中的位置是________________。‎ <br />‎（2）工业上生产粗硅的反应有SiO2＋2CSi(粗硅)＋2CO↑；SiO2＋3CSiC＋2CO↑。若产品中单质硅与碳化硅的物质的量之比为1∶1，则参加反应的C和SiO2的质量之比为________。‎ <br />‎（3）工业上可以通过如图所示的流程制取纯硅：‎ <br />‎①若反应Ⅰ的化学方程式为Si(粗硅)＋3HClSiHCl3‎ <br /> <br />‎＋H2，则反应Ⅱ的化学方程式为___________________________________________。‎ <br />‎②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出该反应的化学方程式：_______________...